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장비조회 상세
제목
Graded 다층박막 이온빔 증착장비(Graded multilayer thin film ion-beam sputter)

일반장비

일반장비
장비 이미지
국문명
Graded 다층박막 이온빔 증착장비
영문명
Graded multilayer thin film ion-beam sputter
모델명
제작장비
제작국가
대한민국
제작사
대기하이텍
공급사
대기하이텍
일반장비
장비코드
1334
자산관리번호
6120670108
사용방법
직접, 의뢰
표준사용료(원)
0
사용료단위
세트(Set)
장비상태
활용
보유대수
1
취득일자
2012-06-29
취득금액(천원)
0
활용목적
공동활용
취득구분
외자
사용설명
일반장비
키워드
주요규격(Spec)

- Deposition substrate size(mm) : 100×100

- Substrate material : Glass, Silicon wafer

- Substrate thickness(mm) : 0.5~1

- Target material : W, C, B₄C

- Thin film thickness(nm) : 0.1~10(tolerance : ± 0.0

사용분야

- 기판에 균일 또는 선형적인 기울기를 갖는 박

장비설명

Ion Beam sputtering method를 적용한 thin film deposition system, 나노 스케일의 다층 또는 단일 박막 증착, 마스크를 사용한 Graded multilayer 증착 장비

첨부파일
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분류

분류
표준분류
C. 기계가공시험장비
전략산업분류
RFT
연구장비분류

관련사업

관련사업
과제수행부처
지식경제부
세부과제명
방사선영상기술센터설립사업
세부사업명
차기지역전략진흥산업
참여구분
주관
전문기관
KIAT

설치 정보

설치 정보
기관명
(재)전북테크노파크 익산 스마트융합기술센터(Smart convergence Techonology Center(JBTP))
장소
(54526) 전라북도 익산시 함열읍 익산대로78길 13-6
설치 정보
부서
방사선융합팀
유형
도출연기관
설치 정보
홈페이지
http://www.jbtp.or.kr

관리 정보

관리 정보
이름
최병정
대표메일
megacbj@jbtp.or.kr
전화번호
063-720-3716
팩스번호
063-724-3791
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